图书介绍

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电子枪与离子束技术
  • 张以忱编著 著
  • 出版社: 北京:冶金工业出版社
  • ISBN:7502433899
  • 出版时间:2004
  • 标注页数:284页
  • 文件大小:11MB
  • 文件页数:292页
  • 主题词:电子枪;离子束

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图书目录

1.1 电子光学特征1

1 电子光学1

1.2 轴对称电场中的电子运动5

1.3 电透镜10

1.4 磁透镜20

1.5 实用磁透镜28

1.6 静电透镜与磁透镜的比较31

2 电子束技术基础32

2.1 电子束的产生及性质33

2.2 电子枪概述44

2.3 强流电子枪设计基础47

2.4 电子束蒸发沉积73

3.1 等离子体基本性质81

3 离子束物理基础81

3.2 等离子体的分类88

3.3 等离子体的获得90

3.4 低温等离子体中粒子运动和放电基本过程92

3.5 离子束与材料表面的相互作用108

4 强流轴向电子枪116

4.1 概述116

4.2 轴向电子枪基本结构和工作原理117

4.3 轴向电子束发生系统设计计算119

4.4 电子光路系统设计计算133

4.5 枪室真空系统设计144

4.6 电子枪的调试145

4.7 强流轴向枪电源设计146

4.8 电子枪X射线的形成与屏蔽防护150

5 偏转电子枪163

5.1 电子束流磁偏转理论基础163

5.2 偏转电子枪工作原理与结构165

5.3 偏转枪(e型枪)参数设计175

5.4 偏转电子枪束流设计计算180

5.5 压差孔的设计189

5.6 电子枪头的安装与调试195

5.7 偏转电子枪电源199

6 空心阴极放电(HCD)电子枪203

6.1 空心阴极放电效应203

6.2 空心阴极电子枪工作原理210

6.3 空心阴极电子枪设计参数212

6.4 HCD枪中等离子体的离化率与电流形成215

6.5 偏转电磁场的设计计算218

6.6 空心阴极与辅助阳极的设计230

6.7 离子镀中等离子源的束流偏转235

7 离子束技术237

7.1 离子源237

7.2 离子注入技术254

7.3 离子束沉积技术261

8 S枪离子溅射源的设计基础266

8.1 S枪的基本原理与结构266

8.2 S枪溅射源结构设计267

8.3 S枪磁控溅射的工作特性270

8.4 基本参数的设计计算276

参考文献283

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