图书介绍
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- 张以忱编著 著
- 出版社: 北京:冶金工业出版社
- ISBN:7502433899
- 出版时间:2004
- 标注页数:284页
- 文件大小:11MB
- 文件页数:292页
- 主题词:电子枪;离子束
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图书目录
1.1 电子光学特征1
1 电子光学1
1.2 轴对称电场中的电子运动5
1.3 电透镜10
1.4 磁透镜20
1.5 实用磁透镜28
1.6 静电透镜与磁透镜的比较31
2 电子束技术基础32
2.1 电子束的产生及性质33
2.2 电子枪概述44
2.3 强流电子枪设计基础47
2.4 电子束蒸发沉积73
3.1 等离子体基本性质81
3 离子束物理基础81
3.2 等离子体的分类88
3.3 等离子体的获得90
3.4 低温等离子体中粒子运动和放电基本过程92
3.5 离子束与材料表面的相互作用108
4 强流轴向电子枪116
4.1 概述116
4.2 轴向电子枪基本结构和工作原理117
4.3 轴向电子束发生系统设计计算119
4.4 电子光路系统设计计算133
4.5 枪室真空系统设计144
4.6 电子枪的调试145
4.7 强流轴向枪电源设计146
4.8 电子枪X射线的形成与屏蔽防护150
5 偏转电子枪163
5.1 电子束流磁偏转理论基础163
5.2 偏转电子枪工作原理与结构165
5.3 偏转枪(e型枪)参数设计175
5.4 偏转电子枪束流设计计算180
5.5 压差孔的设计189
5.6 电子枪头的安装与调试195
5.7 偏转电子枪电源199
6 空心阴极放电(HCD)电子枪203
6.1 空心阴极放电效应203
6.2 空心阴极电子枪工作原理210
6.3 空心阴极电子枪设计参数212
6.4 HCD枪中等离子体的离化率与电流形成215
6.5 偏转电磁场的设计计算218
6.6 空心阴极与辅助阳极的设计230
6.7 离子镀中等离子源的束流偏转235
7 离子束技术237
7.1 离子源237
7.2 离子注入技术254
7.3 离子束沉积技术261
8 S枪离子溅射源的设计基础266
8.1 S枪的基本原理与结构266
8.2 S枪溅射源结构设计267
8.3 S枪磁控溅射的工作特性270
8.4 基本参数的设计计算276
参考文献283
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